該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào)；流量計(jì)控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

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產(chǎn)品詳情

參數(shù)

　　一、應(yīng)用領(lǐng)域

　　該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300(max)，樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào);流量計(jì)控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

　　二、性能參數(shù)

　　1. 鍍膜室尺寸：Φ450×500mm鐘罩

　　2. 鍍膜有效尺寸：Φ300mm

　　3. 離子轟擊功率：0.6kW

　　4. 恢復(fù)真空抽氣時(shí)間(min)：<30

　　5. 蒸發(fā)源數(shù)目：4對(duì)，帶電動(dòng)擋板;

　　6. 蒸發(fā)源功率：2kW (可選電流、電壓控制);

　　7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、樣品臺(tái)加熱可選;

　　8. 工藝氣體：MFC 1路;

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