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多弧+磁控濺射復(fù)合鍍膜機(jī)
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多弧+磁控濺射復(fù)合鍍膜機(jī)

該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,可進(jìn)行反應(yīng)濺射;用于硬質(zhì)膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。
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產(chǎn)品詳情
參數(shù)

  一、應(yīng)用領(lǐng)域:

  該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,可進(jìn)行反應(yīng)濺射;用于硬質(zhì)膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

  二、性能參數(shù):

  1. Φ500x500立式水冷腔體,

  2. 配DN100多弧靶3只,4″平面圓靶1只;

  3. 平面靶配1000w射頻電源;系統(tǒng)可加偏壓,偏壓電源為脈沖直流,功率2000W;

  4. 最高工藝加熱溫度500℃,

  5. 樣品架公自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速0-50rpm可調(diào);

  6. 系統(tǒng)配4路MFC工藝氣體。

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