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產(chǎn)品

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產(chǎn)品

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真空鍍膜系統(tǒng)

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科研應用鍍膜系統(tǒng)

多弧+磁控濺射復合鍍膜機

該設備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進行反應濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

熱蒸發(fā)、磁控濺射鍍膜機

該設備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜，亦可鍍鐵磁材料。

電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機

該設備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發(fā)不同的材料。設備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對電極可單獨或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào)；流量計控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機

該設備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設備由主腔室和預備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜，完成用戶主要鍍膜工藝過程。預備室通過高真空插板閥與主腔室相連，可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗，并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。

雙腔室多功能磁控濺射鍍膜機

該設備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)；為避免交叉污染，一個腔室可實現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜，另一腔室可實現(xiàn)濺射鍍膜。

多靶位立式磁控濺射鍍膜機

該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等）的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

通用磁控濺射鍍膜機

磁控濺射鍍膜機是應用最廣泛的PVD沉積設備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。該設備主要用于實驗室制備光學膜層，電學，光電膜層及其它功能膜層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設備廣泛應用于大專院校及相關(guān)科研機構(gòu)。